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范正修--物理学

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姓名：范正修

所在的机构:中国科学院上海光学精密机械研究所

主要研究方向:光学薄膜和薄膜物理

出生年月:1940年9月

籍贯:山东泰安

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【已发表论文】：

［1］李国俊康学亮李永平吕超范正修丁磊隋展.反射型磁光多层膜隔离器的频率响应及宽容性研究［Ｊ］.物理学报，2007，56(5)：2945～

［2］沈自才沈建刘世杰孔伟金邵建达范正修.渐变折射率薄膜的分层评价探讨［Ｊ］.物理学报，2007，56(3)：1325～

［3］夏志林邵建达范正修.薄膜体内缺陷对损伤概率的影响［Ｊ］.物理学报，2007，56(1)：400～

［4］孙喜莲范正修邵建达.Al2O3和Cr过渡层对Ag膜光学性质及其附着力的影响［Ｊ］.金属学报，2007，43(3)：307～

［5］申雁鸣贺洪波邵淑英范正修邵建达.薄膜厚度对HfO2薄膜残余应力的影响［Ｊ］.稀有金属材料与工程，2007，36(3)：412～

［6］李霞贺洪波赵元安范正修.基底对光学薄膜弱吸收测量的影响［Ｊ］.强激光与粒子束，2007，19(2)：257～

［7］沈自才孔伟金刘世杰沈建邵建达范正修.斜角入射沉积法制备渐变折射率薄膜的折射率分析［Ｊ］.物理学报，2006，55(10)：5157～

［8］刘世杰沈健沈自才孔伟金魏朝阳晋云霞邵建达范正修.多层介质膜脉冲压缩光栅近场光学特性分析［Ｊ］.物理学报，2006，55(9)：4588～

［9］夏志林范正修邵建达.激光作用下薄膜中的电子-声子散射速率［Ｊ］.物理学报，2006，55(6)：3007～

［10］侯海虹孙喜莲申雁鸣邵建达范正修易葵.电子束蒸发氧化锆薄膜的粗糙度和光散射特性［Ｊ］.物理学报，2006，55(6)：3124～

［11］尚淑珍邵建达沈健易葵范正修.退火对电子束热蒸发193nm Al2O3/MgF2反射膜性能的影响［Ｊ］.物理学报，2006，55(5)：2639～

［12］吴师岗邵建达范正修.负离子元素杂质破坏模型［Ｊ］.物理学报，2006，55(4)：1987～

［13］孔伟金刘世杰沈健沈自才邵建达范正修.飞秒激光用多层介质膜脉宽压缩光栅的设计［Ｊ］.物理学报，2006，55(3)：1143～

［14］范树海贺洪波邵建达范正修赵元安.表面热透镜薄膜吸收测量灵敏度提高方法［Ｊ］.物理学报，2006，55(2)：758～

［15］晋云霞范瑞瑛邵建达范正修.2μm波段激光薄膜的研制［Ｊ］.激光与光电子学进展，2006，43(10)：59～

［16］崔云贺洪波范正修邵建达.高能激光武器的发展及卫星激光防护膜的研究［Ｊ］.激光与光电子学进展，2006，43(6)：10～

［17］张东平范平邵建达范正修.光学薄膜中的包裹物微缺陷［Ｊ］.激光与光电子学进展，2006，43(4)：34～

［18］尚淑珍易葵邵建达范正修.光刻机系统中193nm薄膜的研究进展［Ｊ］.激光与光电子学进展，2006，43(1)：11～

［19］范平邵建达易葵齐红基范正修.Cu膜的光学特性尺寸效应及最小连续膜厚研究［Ｊ］.光子学报，2006，35(10)：1542～

［20］秦俊岭易葵邵建达范正修.周期性梯度折射率多层膜的软X射线反射率［Ｊ］.光子学报，2006，35(8)：1191～

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