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刘玉岭--电子与通讯

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姓名：刘玉岭

所在的机构:河北工业大学微电子研究所

主要研究方向:微电子产品技术

社会关系、社会职务:中国洗净技术工程协会副理事长
中国洗净技术工程中心主任
洗净新技术协会理事长
《洗净技术》编委
河北工业大学微电子技术与材料研究所所长
微电子学与固体电子学学科带头人
南开大学兼职教授
全国高校科技先进工作者
河北省高层次拨尖人才
河北省省管优秀专家
河北省学位评审委员会专家
河北省十大发明家

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【已发表论文】：

［1］孙鸣刘玉岭刘博贾英茜.低κ介质与铜互连集成工艺［Ｊ］.微纳电子技术，2006，43(10)：464～

［2］武晓玲刘玉岭贾英茜鲍云英.CLBO晶体化学机械抛光技术的研究［Ｊ］.微纳电子技术，2006，43(10)：496～

［3］刘博刘玉岭孙鸣贾英茜刘长宇.ULSI多层铜布线CMP影响因素分析研究［Ｊ］.微纳电子技术，2006，43(9)：442～

［4］贾英茜刘玉岭牛新环刘博孙鸣.ULSI多层互连中的化学机械抛光工艺［Ｊ］.微纳电子技术，2006，43(8)：397～

［5］尹睿刘玉岭李薇薇张建新.ULSI中低k介质的化学机械全局平坦化分析研究［Ｊ］.微纳电子技术，2006，43(3)：154～

［6］袁育杰刘玉岭张远祥程东升.铝薄膜CMP影响因素分析［Ｊ］.微纳电子技术，2006，43(2)：107～

［7］赵之雯牛新环檀柏梅袁育杰刘玉岭.蓝宝石衬底材料CMP抛光工艺研究［Ｊ］.微纳电子技术，2006，43(1)：16～

［8］孙继兵崔春翔王如张颖刘玉岭李林杨伟.HDDR处理的Sm2Fe16.5Ti0.5合金的结构与氮化［Ｊ］.功能材料，2006，37(3)：478～

［9］王娟刘玉岭檀柏梅李薇薇周建伟.蓝宝石衬底片的精密加工［Ｊ］.微电子学，2006，36(1)：46～

［10］王胜利刘玉岭.ULSI制备中铜布线化学机械抛光技术的研究与展望［Ｊ］.河北工业大学学报，2006，35(5)：17～

［11］张伟周建伟刘玉岭刘承霖.硅片研磨表面状态的改善和研磨液的改进［Ｊ］.半导体技术，2006，31(10)：758～

［12］刘长宇刘玉岭王娟牛新环.计算机硬盘基板及其CMP技术分析研究［Ｊ］.半导体技术，2006，31(8)：565～

［13］张西慧刘玉岭李洁.HF溶液中铜离子在硅片表面沉积的研究［Ｊ］.半导体技术，2006，31(6)：425～

［14］李薇薇檀柏梅周建伟刘玉岭.集成电路多层铜布线阻挡层CMP技术与材料［Ｊ］.半导体技术，2006，31(5)：334～

［15］王娟刘玉岭张建新舒行军.钽抛光及抛光机理的探究［Ｊ］.半导体技术，2006，31(5)：361～

［16］李薇薇周建伟尹睿刘玉岭.IC制备中钨插塞CMP技术的研究［Ｊ］.半导体技术，2006，31(1)：26～

［17］张西慧刘玉岭靳辉王桂香.硅衬底清洗液中FA／O螯合剂的应用研究［Ｊ］.电子器件，2006，29(3)：663～

［18］李薇薇周建伟刘玉岭王娟.新型兆声清洗去除集成电路衬底硅片表面污染物的分析研究［Ｊ］.电子器件，2006，29(1)：124～

［19］李广福刘玉岭李薇薇.LCD残留液晶的清洗［Ｊ］.清洗世界，2006，22(9)：24～

［20］张远祥刘玉岭袁育杰.微电子工艺中硅衬底的清洗技术［Ｊ］.清洗世界，2006，22(2)：29～

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